化學式:NH2OH  

CAS: 7803-49-8

羫胺是一種多功能化學品，由於其優異的還原和清潔性能，廣泛應用於半導體製造中。它通常用於光阻剝離、蝕刻後殘留物去除和表面處理等過程，確保元件製造中的精度和高性能。 

化學式:C15H10O2  

CAS: 723-62-6

9-蒽甲酸是一種專門的有機化合物，因其作為光化學劑（BARC）和表面改性劑的特性，廣泛應用於半導體製程中。它在光阻配方和增強表面附著力等過程中發揮作用，有助於提高先進微製程技術中的精度和效率。 

化學式: (CH2)4SO2 

CAS: 126-33-0

磺烯是一種具有高度穩定性和極性溶劑，廣泛應用於半導體製程中，因其卓越的溶解能力，能溶解各種有機和無機化合物。其特性使其在關鍵的清洗、蝕刻和化學配方中非常理想，確保先進製造過程中的精度和可靠性。